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    1. 集成電路IT/CAD設計環(huán)境的今日與未來

      時間:2019-4-28 分享到:

      近些年,国家正大力推动半导体产业发展,各地政府也积极推出配套产业政策,全国范围的芯片热正在蓬勃开展。目前国内的设计公司已超过2000家,然而纵观整个半导体行业的IT现状,相较于其他诸如互联网、金融行业来说,半导体的IT水平还处于相对保守、发展缓慢的阶段。

      在过去的一年,我接触到了大量的市场需求,与大量行业内的研发及IT/CAD人员交流学习,同时开始研究公有云与私有云发展趋势,针对集成电路产业的IT/CAD设计环境的发展规划做了一张图来示意:

      集成电路IT/CAD设计环境的今日与未来

      我把IT/CAD环境分了9个方面: 网络架构、计算集群、EDA工具、设计数据、设计流程、设计环境、研发站点扩张、信息安全、用户管理与自助式服务,从这9个方面来分析行业内IT/CAD所处的阶段。

      小比例公司的IT/CAD水平处于Stage2.0以上。 在笔者看来,国内仅有一家公司处在Stage4.0阶段。 绝大部分的中小创公司尚处在Stage 1.0以下的阶段, 主要特征为:

      1- 网络架构: 两层简单架构

      2- 计算集群: 单机模式

      3- EDA工具: 工具本地化

      4- 设计数据: 数据本地化

      5- 设计流程: 工具简单集合

      6- 设计环境: 手工生成

      7- 研发站点扩张: 局域网点状架构

      8- 信息安全: 基于网络基础的安全、本地及异地备份

      9- 用户管理与自助式服务: 管理员公共管理

      行业发展在IT/CAD的三个差距(IT基础架构的差距、CAD管理体系的差距、EDA Cloud的差距)方面,将随着行业的发展渐渐弥补和追赶,且追赶速度会不一致: IT基础架构和Cloud的差距相对较小,差距最大的是CAD管理体系。

      如上图所示,最终三个差距的逐步弥补和完善,将达到Stage5.0阶段:

      1- 网络架构: 三层安全架构

      2- 计算集群: HPC集群PaaS化

      3- EDA工具: EDA工具SaaS化

      4- 设计数据: 数据SaaS化

      5- 设计流程: 流程SaaS化

      6- 设计环境: 环境SaaS化

      7- 研发站点扩张: 广域网环状架构异地研发协同

      8- 信息安全: 公用秘钥与私用秘钥

      9- 用户管理与自助式服务: 多用户/单用户自助服务及敏捷IT运维

      大胆且乐观预测一下,以上描述的Stage5.0将在不超过2020年出现。 让我们一起努力,为中国半导体加油。

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